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上個(gè)月英特爾晶圓代工（Intel Foundry）宣布，已在美國(guó)俄勒岡州希爾斯伯勒的英特爾半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)基地完成了業(yè)界首臺(tái)High-NAEUV光刻機(jī)組裝工作。隨后開始在Fab D1X進(jìn)行校準(zhǔn)步驟，為未來(lái)工藝路線圖的生產(chǎn)做好準(zhǔn)備。英特爾運(yùn)營(yíng)新模式英特爾是少數(shù)采用IDM模式的芯片廠商，完整覆蓋了芯片從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)再到銷售的全過(guò)程，產(chǎn)
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5月8日消息，ASML最先進(jìn)EUV光刻機(jī)今年訂單已經(jīng)被Intel包攬，其單臺(tái)售價(jià)超過(guò)了25億元。據(jù)悉，ASML截至明年上半年最先進(jìn)EUV設(shè)備的訂單已經(jīng)由英特爾承包，而今年計(jì)劃生產(chǎn)的五套設(shè)備也將全部運(yùn)給這家美國(guó)芯片制造商。按照消息人士的說(shuō)法，由于上述EUV設(shè)備產(chǎn)能每年約為5到6臺(tái)，這意味著英特爾將獲得所有初始庫(kù)存。這也導(dǎo)致，英特
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前段時(shí)間有人留言，想了解半導(dǎo)體究竟是什么，和導(dǎo)體絕緣體有什么關(guān)系？然后羅叔做了調(diào)查，發(fā)現(xiàn)大多數(shù)人，一聽到半導(dǎo)體這個(gè)名字的時(shí)候，第一時(shí)間想到的就是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，但要他們說(shuō)一下半導(dǎo)體到底是什么，又說(shuō)不出個(gè)所以然。因此本篇視頻就來(lái)給大家介紹，半導(dǎo)體的“前世今生”。半導(dǎo)體是什么？芯片為什么和半導(dǎo)體密不可分？為
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光刻機(jī)一直是半導(dǎo)體領(lǐng)域的一個(gè)熱門話題。從早期的深紫外光刻機(jī)（DUV）起步，其穩(wěn)定可靠的性能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)；再到后來(lái)的極紫外光刻機(jī)（EUV）以其獨(dú)特的極紫外光源和更短的波長(zhǎng)，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數(shù)值孔徑光刻機(jī)（High-NA）正式登上歷史舞臺(tái)，進(jìn)一步提升了光刻的精度和效率，為
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芯片巨頭英特爾近日喜獲業(yè)內(nèi)首臺(tái)具有 0.55 數(shù)值孔徑（High-NA）的 ASML 極紫外（EUV）光刻機(jī)，將助力其在未來(lái)幾年實(shí)現(xiàn)更先進(jìn)的芯片制程。與之形成鮮明對(duì)比的是，另一巨頭臺(tái)積電則按兵不動(dòng)，似乎并不急于加入這場(chǎng)下一代光刻技術(shù)的競(jìng)賽。業(yè)內(nèi)分析師預(yù)計(jì)，臺(tái)積電可能要到 2030 年甚至更晚才會(huì)采用這項(xiàng)技術(shù)。英特爾此次獲得的&n
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近來(lái)，因?yàn)榧涯馨l(fā)布了號(hào)稱可以生產(chǎn)2nm的新一代納米壓印光刻機(jī)，引起了大家對(duì)其與ASML競(jìng)爭(zhēng)的廣泛討論。不過(guò)，semiwiki的作者Robert Maire在其文章中毫不客氣地抨擊了大家的這種觀點(diǎn)。他首先表示，過(guò)去幾周對(duì)佳能過(guò)度反應(yīng)和當(dāng)初對(duì)應(yīng)用材料的Sculpta一樣。他同時(shí)指出，納米壓印雖然已經(jīng)取得了巨大進(jìn)步，但仍然沒(méi)有競(jìng)爭(zhēng)力。在他
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晶圓代工廠是指專門從事半導(dǎo)體晶圓代工的制造商，負(fù)責(zé)將芯片設(shè)計(jì)公司的芯片設(shè)計(jì)圖紙制造成實(shí)際的芯片產(chǎn)品。 工藝是指半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的工藝流程和設(shè)備。據(jù)最新消息，一些知名代工廠已宣布將在明年第一季度大幅降低芯片制造報(bào)價(jià)。 這意味著明年一季度芯片制造價(jià)格可能進(jìn)一步下跌。老牌 OEM 制造商正面臨著捍衛(wèi) 60% 產(chǎn)能
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高數(shù)值孔徑 （ High -NA ） EUV 光刻 機(jī) 剛剛起步，ASML又開始 致力于開發(fā) 超數(shù)孔徑Hyper-NA EUV光刻機(jī)。 ASML 名 譽(yù)首席技術(shù)官 Martin van den Brink在安特衛(wèi)普舉行的Imec技術(shù)論壇（ITF）上發(fā)表演講時(shí)透露了公司的未來(lái)規(guī)劃。 他表示，在未來(lái)十年內(nèi)，ASML將構(gòu)建一個(gè)集成低數(shù)值孔徑、高數(shù)值孔
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5 月 23 日消息，據(jù)荷蘭媒體 Bits&Chips 報(bào)道，ASML顧問(wèn)、前任 CTO 馬丁?范登布林克（Martin van den Brink）近日稱，這家光刻機(jī)制造商考慮推出一個(gè)通用 EUV 光刻平臺(tái)。范登布林克在本月 21~22 日舉行的 2024 年度 imec ITF World 技術(shù)論壇上表示：我們提出了一個(gè)長(zhǎng)期（也許十年）的路線圖：我們將擁有一個(gè)包含
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5月22日消息，據(jù)外媒報(bào)道稱，ASML聲稱可以遠(yuǎn)程癱瘓旗下售出的光刻機(jī)，這引來(lái)網(wǎng)友的圍觀?，F(xiàn)在，報(bào)道中有給出了更多有趣的細(xì)節(jié)，比如ASML表示可以遠(yuǎn)程癱瘓（remotely disable）相應(yīng)機(jī)器，包括最先進(jìn)的極紫外光刻機(jī)（EUV）。消息人士稱，EUV需要頻繁維護(hù)，如果沒(méi)有ASML提供的備件，這些機(jī)器很快就會(huì)停止工作。此外，EUV的現(xiàn)場(chǎng)
